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真空镀膜和光学镀膜之间的区别是什么？
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【概要描述】真空镀膜技术大家都很熟悉。真空镀膜是将待镀膜材料和待镀膜基板置于真空室中，通过一定的方法将待镀膜材料加热、蒸发或升华，并飞行溅射至被镀基板表面凝聚成膜的工艺。
真空镀膜和光学镀膜之间的区别是什么？
【概要描述】真空镀膜技术大家都很熟悉。真空镀膜是将待镀膜材料和待镀膜基板置于真空室中，通过一定的方法将待镀膜材料加热、蒸发或升华，并飞行溅射至被镀基板表面凝聚成膜的工艺。
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真空镀膜技术大家都很熟悉。真空镀膜是将待镀膜材料和待镀膜基板置于真空室中，通过一定的方法将待镀膜材料加热、蒸发或升华，并飞行溅射至被镀基板表面凝聚成膜的工艺。广泛应用于塑料制品中，不少真空镀膜机厂表示，塑料具有易成型、成本低、重量轻、无腐蚀性等特点。塑料制品应用广泛，但其缺点限制了其更广泛的应用。通过真空镀膜技术的应用，使其表面金属化，有机和无机材料相结合，大大提高了其物理和化学性能。
光学镀膜是指在光学零件表面镀一层金属(或介质)薄膜(或多层)的过程。光学元件表面的电镀是为了减少或增加光的反射、分裂、分色、过滤、偏振等要求。
那么，真空镀膜和光学镀膜之间的区别是什么?
一、原理的差异
1、真空镀膜是真空应用领域的重要方面，是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频、磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制造的新技术。简单地说，在真空中蒸发或溅射金属、合金或化合物，使其凝固并沉积在涂有涂层的物体(基板、基板或基板)上的方法。
2、光的干涉在薄膜光学中广泛应用，光学镀膜技术的常用方法是通过真空溅射在玻璃基板上镀薄膜，通常用于控制基板对入射光束的反射率和透射率，以满足各种需求。为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，镀上一个或多个透明介质膜，称为防反射膜。
随着激光技术的发展，对反射率和透光率的要求发生了变化，促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展。
二、方法和材料的差异
1、真空镀膜
(1)真空蒸：清洗需要涂层的气体后，放在涂层室，抽空后将膜材加热到高温，使蒸汽达到约13.3Pa，并将蒸汽分子飞到气体表面凝结，制成薄膜。
(2)阴极溅射电镀：将需要涂层的气体放在阴极对面，将惰性气体(如氩气)穿过有空隙的室内，使压力保持在1.33~13.3Pa左右，然后将阴极连接到2000V的直流电源，产生辉光放电，有静电的氩离子撞击阴极，释放原子。
综上所述，真空镀膜的功能是多方面的，这决定了应用场所非常丰富。一般来说，真空镀膜的主要功能包括给镀层表面赋予高金属光泽和镜面效果，给薄膜材料以优异的阻隔性能，从而提供良好的电磁屏蔽和传导效果。
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