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真空镀膜技术，你真的知道吗？
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- 发布时间：2022-01-05 12:32
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【概要描述】真空镀膜用物理方法制造薄膜材料的技术。在真空室，材料的原子与加热源分离，并撞击电镀物体的表面。这项技术开始用于生产光学镜头，如航海望远镜镜头。后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。
真空镀膜技术，你真的知道吗？
【概要描述】真空镀膜用物理方法制造薄膜材料的技术。在真空室，材料的原子与加热源分离，并撞击电镀物体的表面。这项技术开始用于生产光学镜头，如航海望远镜镜头。后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。
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真空镀膜用物理方法制造薄膜材料的技术。在真空室，材料的原子与加热源分离，并撞击电镀物体的表面。这项技术开始用于生产光学镜头，如航海望远镜镜头。后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它以真空技术为基础，采用物理或化学方法，吸收分子、离子、等离子、射频和磁控管等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供了薄膜制备的一种新工艺。
真空镀膜使塑料表面具有金属质感;与铝、铜、铁、不锈钢等金属零件相比，塑料零件的制造工艺具有独特的大批量低成本加工等优点，因此，经过表面真空镀膜加工的塑胶部件在工业品的外观方面已经或正在越来越广泛的取代金属部件，从面上大大降低了产业和消费者电子类的制造成本，在同一个产业竞争提高和巩固了产品的价格优势。
真空镀膜的基本原理
真空镀膜过程简单地说，就是在电场的作用下加速飞向基板的过程，与氩原子发生碰撞，电离大量氩离子，并将电子飞向基板。在电场的作用下快速轰击靶，溅出大量靶原子，将中性的靶分子沉积在基板上，形成膜。
但是，在实际辉光放电直流溅射系统，在小于1.3Pa的条件下很难保持自放电。因为在这种条件下，分离冲突是不够的。因此，在低于1.3~2.7Pa的压力下工作的溅射系统提高电离电子尤为重要。提高电离碰撞的方法由额外的电子源提供，而不是阴极发出的二次电子。就是利用高频放电装置或施加磁场的方式，提高现有的电离效率。
在磁场的作用下围绕靶面进行圆周运动，该电子的运动路径很长，运动过程不断与氩原子碰撞，喷出大量氩离子轰击靶，多次撞击后电子的能量逐渐增大。
真空镀膜是被磁场束缚，延长运动路径，改变运动方向，提高工作气体的电离率，有效利用能量。真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿，因为一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用使单个电子轨迹呈三维螺旋状，而不是仅仅在靶面圆周运动。
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