夏禹纳米科技（深圳）有限公司
当前位置
真空镀膜和光学镀膜有什么区别
- 作者：
- 来源：
- 发布时间：2021-12-25 12:03
- 浏览量：
【概要描述】真空镀膜是指在高真空下加热金属或非金属材料，使其在被镀件表面蒸发凝结形成薄膜的方法，比如真空镀铝、真空镀铬等。光学镀膜是指在光学零件表面镀一层金属膜的过程。光学零件表面镀膜的目的是减少或增加对光的反射、分光、分色、滤波和偏振的要求，常用的涂层方法有真空涂层(一种物理涂层)和化学涂层。
真空镀膜和光学镀膜有什么区别
【概要描述】真空镀膜是指在高真空下加热金属或非金属材料，使其在被镀件表面蒸发凝结形成薄膜的方法，比如真空镀铝、真空镀铬等。光学镀膜是指在光学零件表面镀一层金属膜的过程。光学零件表面镀膜的目的是减少或增加对光的反射、分光、分色、滤波和偏振的要求，常用的涂层方法有真空涂层(一种物理涂层)和化学涂层。
- 分类：行业新闻
- 作者：
- 来源：
- 发布时间：2021-12-25 12:03
- 访问量：0
真空镀膜是指在高真空下加热金属或非金属材料，使其在被镀件表面蒸发凝结形成薄膜的方法，比如真空镀铝、真空镀铬等。光学镀膜是指在光学零件表面镀一层金属膜的过程。光学零件表面镀膜的目的是减少或增加对光的反射、分光、分色、滤波和偏振的要求，常用的涂层方法有真空涂层(一种物理涂层)和化学涂层。
真空镀膜和光学镀膜原则差异：1、真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它是在真空技术的基础上，利用物理或化学方法，吸收电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控管等一系列新技术，制备薄膜的新技术。提供科学研究和实际生产。简单来说，就是在真空中蒸发或溅射金属、合金或化合物，使其固化并沉积在涂层物体上的方法。2、光学薄膜技术的常用方法是通过真空溅射的方式在玻璃基板上镀膜，一般用于控制基板对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需求。为了消除光学零件表面的反射损耗，提高成像质量，涂覆了一层或多层透明介质膜，称为抗反射膜或抗反射膜。随着激光技术的发展，对薄膜的反射率和透过率有了不同的要求，推动了多层高反射膜和宽带抗反射膜的发展。为了满足各种应用的需要，高反射膜被用于制造偏振反射膜、分色膜、发光膜和干涉滤光片。涂覆在光学零件表面后，光在各层上多次反射和透射，形成多光束干涉。通过控制各层的折射率和厚度，可以获得不同的强度分布，这是干涉涂层的基本原理。
真空镀膜和光学镀膜方法和材料的区别：1、真空镀膜的方法和材料：(1)真空蒸发镀膜：将待镀膜的基板清洗干净后，放入镀膜室中，抽真空后，将膜材料加热到高温，使蒸汽达到13.3Pa左右，使蒸汽分子飞向基板表面并凝结成膜。(2)阴极溅射镀膜：将待镀膜的衬底与阴极相对放置，向真空室通入惰性气体(如氩气)，压力保持在1.33 ~ 13.3帕左右，然后将阴极与2000伏DC电源相连，再激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极发射原子，溅射的原子通过惰性气氛沉积在衬底上形成薄膜。(3)化学气相沉积：通过选定的金属化合物或有机化合物的热分解来沉积薄膜的过程。(4)离子镀：本质上，离子镀是真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，兼具两者的工艺特点。表6-9列出了各种涂层方法的优缺点。2、光学镀膜方法的材料：(1)氟化镁：无色四方粉，纯度高，可提高光学镀膜的透光率，无崩点。(2)二氧化硅：无色透明晶体、熔点高、硬度高、化学稳定性好，用它制备的高纯度、高质量的Si02涂层具有良好的蒸发状态和无塌陷点。根据使用要求，可分为紫外线、红外线和可见光。(3)氧化锆：白色重晶态、高折射率耐高温、化学性质稳定、纯度高，可用于制备无塌点的高质量氧化锆涂层。
扫二维码用手机看
Copyright © 夏禹纳米科技(深圳) 有限公司 粤ICP备2021136873号 网站建设 中企动力 深圳
派瑞林维修、派瑞林、parylene、真空镀膜、马达防水、耳机防水、防水键盘、防汗、三防、防水